The electrical properties (Hall, PL, DLTS data) of undoped hydride VPE GaAs layers are presented. The properties of deep electron traps in this material are discussed. The variation of the layer properties in dependence on a variation of the gas phase Ga/As ratio is compared for two series of experiments. Only in one series characterized by GaCl partial pressure variation an optimum in electrical properties, depending on actual growth conditions, is found. The crucial parameter for the determination of such optimum growth conditions is the GaCl partial pressure. Es werden die elektrischen Eigenschaften (Hall-, PL-, DLTS-Daten) von undotierten Hydrid-VPE GaAs-Schichten vorgestellt. Die Eigenschaften tiefer Elektronentraps in diesem Material werden diskutiert. Die Veranderung der Schichteigenschaften in Abhangigkeit vom Ga/As-Verhaltnis in der Gasphase wird fur zwei Versuchsreihen verglichen. Nur in einer durch GaCl-Partial-druckvariation gekennzeichneten Serie wird ein von den konkreten Zuchtungsbedingungen abhangiges Optimum der elektrischen Eigenschaften gefunden. Der entscheidende Parameter fur die Bestimmung solcher optimaler Zuchtungsbedingungen ist der GaCl-Partialdruck.