Sputtering yields for 1 to 20 keV H + , D + , He + , Ne + and Ar + ions on 304 stainless steel films have been measured. The films with a thickness of 0.1 to 1 μm were sputter deposited onto polycrystalline Be substrates. Rutherford backscattering of 2 MeV He + ions was used for in situ measurement of the thickness of the stainless steel film. The sputtering yields were obtained from the slope of the decrease in film thickness with increasing sputtering ion dose. The measured yields agree well with yields obtained by weight loss in this laboratory, they are however lower than those published earlier. Les rendements de pulvérisation pour des ions H + , D + , He + , Ne, et Ar + de 1 à 20 keV bombardant des films d'acier inoxydable 304 ont été mesurés. Les films de 0,1 à 1 μm étaient déposés par pulvérisation sur des substrats polycristallins de Be. La rétrodiffusion de type Rutherford des ions He + de 2 MeV a été utilisée pour mesurer in situ l'épaisseur du film d'acier inoxydable. Les rendements de pulvérisation étaient obtenus en mesurant la pente de la diminution de l'épaisseur du film avec la dose croissante de l'ion pulvérisant. Les rendements mesurés sont en bon accord avec ceux obtenus par perte de poids dans ce laboratoire. Ils sont cependant plus faibles que ceux publiés auparavant. Zerstäubungsausbeuten beim Beschuss von dünnen Edelstahlschichten aus SS 304 mit H + , D + , He + , Ne + und Ar + zwischen 1 und 20 keV wurden gemessen. Die Schichten wurden zwischen 0,1 und 1 μm dick auf polykristalline Be-Träger aufgestäubt. Die Schichtdicken wurden in situ durch Rutherford-Rückstreuung von 2 MeV-He + -Ionen gemessen. Die Zerstäubungsausbeuten ergeben sich aus der Abnahme der Schichtdicke mit wachsender Beschussdosis. Sie stimmen gut mit den Zerstäubungsausbeuten überein, die durch Gewichtsverlustmessung in unserem Labor ermittelt wurden, sind jedoch niedriger als früher veröffentlichte Werte.