Abstract
,シウカアルミナ表面の Lewis 型酸性点の存在を,吸者した p-フェニレンジアミンが Lewis 型酸性点と反応して Wurster 塩(セミキノン型ラジカル)を生成することによって証明した。 吸着表面におけるセミキノンの存在は,可視吸収スペクトルが水溶液のセミキノンの吸収帯 462mμ とほぼ一致して 470mμ に吸収帯を示すこと,および電子スピン共鳴スペクトルの出現から,遊離基の存在が確認されたことによって示された。種々の温度処理したシリカアルミナについてその全表面酸性度の相対量を,吸収した Wurster 酸の吸収スペクトルの吸収強度から定量した。そして,処理温度の上昇による Lewis 型酸性点の増加量は,全酸性点の増加量にほぼ比例することを見出した。
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