Efeito da aplicação de silício na germinação de sementes de pimenta sob estresse salino

Carla Medianeira Giroletta Dos Santos,Gilson Domingos Do Mar,Adriana Morais Do Nascimento Matos,Viviane Wruck Trovato,Bruna Neves Pereira Da Silva,Denise Prevedel Capristo,Jeferson Antonio Dos Santos Silva

doi:10.33448/rsd-v9i8.5442

Abstract

O objetivo do presente estudo foi de avaliar a germinação de sementes de Naga Jolokia (Capsicum chinense Jacq.) sob estresse salino com efeito da aplicação de doses de silício. O delineamento experimental utilizado foi inteiramente ao acaso, com nove tratamentos (doses de cloreto de sódio associados com Silício) e quatro repetições, constando de 36 unidades experimentais. Para o estresse salino foi empregado concentrações de cloreto de sódio nas doses de 0; 3,5 e 4,5 dS m-1, e como fonte de silício utilizou-se dióxido de silício, sendo aplicadas as seguintes doses: 0, 30 e 60 g de silício 100 kg sementes-1. As variáveis analisadas foram plântulas anormais, plântulas mortas, germinação, índice de velocidade de germinação, comprimento da parte aérea e de raiz e massa fresca e seca. Os resultados da análise de variância evidenciaram diferença significativa para os tratamentos (P>0,05), para as variáveis plântulas anormais, plântulas mortas, germinação, índice de velocidade de emergência e massa seca de plântula, indicando efeito positivo da aplicação do silício, concluindo que condições de elevada salinidade, influenciam de forma negativa as variáveis observadas, porém, nos tratamentos com salinidade a adição de silício ajuda a atenuar o estresse na planta.

Highlights

O delineamento experimental utilizado foi o inteiramente casualizado, com nove tratamentos e quatro repetições, constando de 36 unidades experimentais
The aim of the present study was to evaluate the germination of Naga Jolokia seeds (Capsicum chinense Jacq.) Under salt stress with the effect of applying silicon doses
Sodium chloride concentrations were used at doses of 0; 3.5 and 4.5 dS m-1, and silicon dioxide was used as the source of silicon, with the following doses being applied: 0, 30 and 60 g of silicon 100 kg seeds-1

Summary

Introdução

Naga Jolokia (Capsicum chinense Jacq) também conhecida como King Chilli, Bhut Jolokia, Ghost Chilli é uma pimenta híbrida interespecífica de Capsicum chinense e Capsicum frutescens (Stipcovich et al, 2018). Entretanto, faltam informações quanto às técnicas adequadas de manejo e produção nas diferentes regiões, o que pode comprometer a sua produtividade. O uso de silício na agricultura aumentou consideravelmente nos últimos anos, devido aos vários benefícios conferidos as plantas, como o aumento da produtividade, maior tolerância a ataques de pragas e doenças, amenização dos efeitos de excesso de metais pesados e tolerância ao estresse salino e hídrico (Menegale et al, 2015). Entretanto, os efeitos dos sais dependerão também de outros fatores, como a espécie, os tipos de sais, concentração e duração do estresse salino, manejo da cultura, condições edafoclimáticas, entre outros (Taiz et al, 2017). Devido ao aumento do cultivo da Naga Jolokia no Brasil e a falta de informações quanto ao seu manejo e produção, o presente estudo teve, o objetivo de avaliar a germinação de sementes de Capsicum chinense Jacq sob estresse salino com efeito da aplicação de doses de silício

Metodologia

Resultados e Discussão

Considerações Finais