Residual electrical resistivity measurements were used for characterizing γ-TiAl intermetallic compounds and for investigating the kinetics of long-range order (LRO) relaxation. In annealed and slowly cooled materials, a linear relationship between residual resistivity and aluminium content was observed in the composition range from 50 to 56.1 at.% Al. The isothermal relaxation of LRO after small temperature changes was investigated in γ-TiAl compounds (with 49.8, 50.7, 52.6 and 54.1 at.% Al). The approach to equilibrium could be satisfactorily represented by a sum of two exponential relaxation processes. The slower process was assigned to LRO relaxation. From the investigation of the temperature dependence of relaxation times, an activation enthalpy of 2.97±0.15 eV was determined for the stoichiometric alloy. This value is close to the activation enthalpy for titanium self-diffusion in TiAl. For Al contents higher than 50.7 at.%, the LRO changes were found to be superimposed on a supplementary phenomenon, which produces a continuous resistivity decrease. A TEM investigation showed that this drift was associated with the precipitation of Ti3Al5, which is a superstructure of the L10 structure.Des mesures de résistivité électrique résiduelle ont été utilisées pour caractériser le composé intermétallique TiAl γ et pour étudier les cinétiques de relaxation de l'ordre à grande distance (OGD). Dans les matériaux recuits et refroidis lentement, une relation linéaire entre la résistivité résiduelle et la teneur en aluminium a été observée dans un domaine de composition de 50 à 56,1 at.% Al. La relaxation isotherme de l'OGD, consécutive à un faible changement de température, a été étudiée dans les composés TiAl γ (à 49,8, 50,7, 52,6 et 54,1 at.% Al). La cinétique d'approche de l'équilibre peut être représentée de façon satisfaisante par une somme de deux exponentielles, qui correspondent chacune à un processus de relaxation. Le processus lent a été associé à la relaxation de l'OGD. A partir des variations des temps de relaxation avec la température, une enthalpie d'activation de 2,97±0,15 eV a été déterminée pour l'alliage stoechiométrique. Cette valeur est proche de l'enthalpie d'activation pour l'autodiffusion du titane dans TiAl. Pour des teneurs en aluminium supérieures à 50,7 at.%, un phénoméne supplémentaire se superpose aux variations de l'OGD, qui se traduit par une diminution continue de la résistivité. Une étude au MET a montré que cette dérive était associée à la précipitation de la phase Ti3Al5, qui est une surstructure de la structure L10 de TiAl γ.