水一流動パラフィンー界面活性剤の三成分からなるO/Wエマルションにおいて,高いずり速度範囲で流動曲線を描かせたさい・ずり速度の増加とともにずり応力がいちじるしく増加し,その流動曲線がチキソト官ピックとは逆のヒステリシスループを描くという特異な現象を見いだした。著者らは,その特異な現象,すなわちダイラタントヒステリシスループについて,それがえられる条件ならびにその特異な現象を生じる原因について調べた。その結果,ダイラタントル-プという現象は独立した現象ではなく,内相比,界面活性剤量,測定温度などによって,ダイラタントループからチキソトロピックループへと連続的に変化する流動曲線の一過程であることがわかった.また,そのダイラタントループが生ずる理由としては粒度分布のずり速度による変化,ならびに粒子の動的集合状態のずり速度による変化で説明できた。