Abstract
Bu çalışmadaki temel amaç Ni (II) iyonlarını sulu çözeltilerden uzaklaştırmaktır. Bunun için adsorplayıcı olarak karışık tip kil kullanılmıştır. Kilin karakterizasyonunu belirlemek için, SEM, XRD ve XRF analizleri yapılmıştır. Bu analizlerden elde edilen sonuçlar, kilin karışık tipte olduğunu göstermiştir. Siirt ili Koçpınar bölgesinden alınan kilin yapılan SEM analizinde; doğal kilin genelde küresel şekilli ve amorf yapıda olduğu ve Ni(II) ile muamele edilen kilin dağınık morfolojiye sahip olduğu görülmüştür. Kullanılan kilin analiz sonuçlarına göre; Muskovit: %32, Plajioklaz: %15, Kalsit: %15, Kuvars: %9, kil mineralleri: %29 oranında olduğu, detay kil analizinde ise; kil mineralinin bileşenleri: illit: % 17, klorit: %62, montmorillonit: %21 oranında olduğu tespit edilmiştir. XRF analiz sonuçları literatüre yakın olmakla beraber, kil karışık tipte olduğu için mineral oranlarında kaymalar gözlenmiştir. CaO oranının yüksek olması SiO2 oranını düşürmüştür.
 Yalancı-ikinci dereceli (pseudo-second order) kinetik model, adsorplayıcı ve adsorplanan madde arasındaki adsorpsiyon mekanizmasını açıklamak için, yaygın olarak kinetik çalışmalardan elde edilen verilere uygulanmaktadır. 
 Bu araştırmada 298 K sıcaklığında yapılan deneyden elde edilen veriler, yalancı – ikinci dereceli kinetik modelinin 6 lineer tipine uygulanmıştır. Bu veriler ışığında grafikler oluşturularak, R2, K2 ve qe değerleri hesaplanmıştır. Modele uyum sırasının Tip 2 = Tip 5
Talk to us
Join us for a 30 min session where you can share your feedback and ask us any queries you have
More From: International Journal of Pure and Applied Sciences
Disclaimer: All third-party content on this website/platform is and will remain the property of their respective owners and is provided on "as is" basis without any warranties, express or implied. Use of third-party content does not indicate any affiliation, sponsorship with or endorsement by them. Any references to third-party content is to identify the corresponding services and shall be considered fair use under The CopyrightLaw.