Field emission study of selenium and tellurium thin films on a tungsten surface

Abstract

The behaviour of the semiconducting materials selenium and tellurium on tungsten surfaces has been studied by field emission microscopy under ultra-high vacuum conditions. Depending on adatom coverage and migration temperatures layers with various properties are obtained. Variations of average work functions, activation energies for desorption of Se and Te from W, and sticking probabilities of residual gases to these W–Se and W–Te systems are measured. Das Verhalten der halbleitenden Materialien Selen und Tellur auf Wolfram wurde im Feldelektronenmikroskop unter Ultrahochvakuum-Bedingungen untersucht. In Abhangigkeit von Adsorbatmenge und Verteilungstemperatur erhalt man Bedeckungen mit verschiedenen Eigenschaften. Es werden die Austrittsarbeitsanderungen, die Desorptionsenergien fur Se und Te von W und die Haftwahrscheinlichkeiten fur Restgase an diesen W–Se- und W–Te-Systemen bestimmt.