АМОРФНЫЕ ПЛЕНКИ SiCx:H и SiCxNy:H, ПОЛУЧЕННЫЕ ИЗ ПАРОВ ГЕКСАМЕТИЛДИСИЛАНА

Abstract

Аморфные прозрачные пленки SiCx:H и SiCxNy:H синтезированы в реакторе с индуктивно-связанной плазмой ВЧ разряда с использованием паров гексаметилдисилана и дополнительных газов аргона и/или азота при температуре 200 °С и мощности разряда 200 Вт. Исследовано влияние скорости потока N2 на морфологию, химическое строение, элементный состав, коэффициент пропускания, показатель преломления, краевой угол смачивания и скорость осаждения пленок. Методом оптической эмиссионной спектроскопии определены компоненты плазмы. Методами ПЭМВР и ЭДС-картирования показано, что отожженный образец Cu/SiCx:H/Si(100) имеет четкие границы раздела подложка/пленка и пленка/слой меди, диффузия Cu не наблюдается, пленку SiCx:H можно рассматривать как перспективный диффузионно-барьерный слой. Изучена стабильность пленок при хранении в условиях окружающей среды. Методами ЭДС, ИК-спектроскопии и РФЭС показана предрасположенность к окислению пленок SiCxNy:H.