Studies of FeNi and FeNiGd thin films by Lorentz microscopy

Abstract

FeNi and FeNiGd films are studied by high voltage Lorentz microscopy in varying in-plane applied magnetic fields. Pilms evaporated at small angles of incidence contained magnetization ripple, low-angle Bloch walls, 180° cross-tie walls, and in some areas gradually varying magnetization directions. The behaviour of the cross-tie walls in applied fields, particularly the creation and annihilation of cross-ties and Bloch lines, enables the structure of the walls to be determined in more detail than before. In particular, it is concluded that the component of magnetization normal to the film plane is in the same direction at all the singularities. FeNi- und FeNiGd-Schichten werden mittels Lorentzmikroskopie in einem 1 MV-Elektronen-mikroskop untersucht. Wahrend der Untersuchung erfolgt eine Veränderung des in der Schicht-ebene angelegten Magnetfeldes. Dabei wird gefunden, daß Schichten, die unter einem kleinen Einfallswinkel aufgedampft werden, Magnetisierungsrippel, Kleinwinkelblochwände, 180°-Stachelwände und in einigen Gebieten sich nach und nach verändernde Magnetisierungsrichtungen zeigen. Das Verhalten der Stachelwände im angelegten Feld, besonders das Auftauchen und Ver-schwinden einzelner Stacheln und „Bloch-Linien”︁, ermöglicht eineg enauere Bestimmung der Wandstruktur, insbesondere die Schlußfolgerung, daß die Magnetisierungskomponenten senkrecht zur Schichtebene an allen Singularitäten dieselbe Richtung haben.