Abstract

This paper reviews the literature concerning the specifics of creating Ohmic contacts to AlGaAs/GaAs heterostructures with a 2D electron gas with high electron mobility. The process of annealing the contacts based of the Ni/Au/Ge system is considered, and the recommended parameters of the metalization layers are borrowed from the literature. This process allows reproducible fabrication of Ohmic contacts with a low electrical resistance to temperatures below 4K. Several mechanisms are analyzed which could result in the experimentally observed dependence of the contact parameters on crystallographic orientation. A method of contact fabrication with Au/ Ge/Pd metallization is described for which the contact is formed by mutual diffusion and interaction of the metals and the semiconductor in the solid phase at temperatures below 200 °C. This provides for high composition homogeneity of the contacts, a smooth metal / semiconductor boundary and can reduce the effect of orientation on the electric characteristics of the contact.

Highlights

  • This paper reviews the literature concerning the specifics of creating Ohmic contacts to AlGaAs/GaAs heterostructures with a 2D electron gas with high electron mobility

  • A method of contact fabrication with Au/ Ge/Pd metallization is described for which the contact is formed by mutual diffusion and interaction of the metals and the semiconductor in the solid phase at temperatures below 200 °C

  • Solid phase formation in Au : Ge/Ni, Ag/In/Ge, In/Au : Ge GaAs ohmic contact systems / A

Read more

Summary

PHYSICAL CHARACTERISTICS AND THEIR STUDY

Посвященной особенностям создания омических контактов к гетероструктурам AlGaAs/GaAs с двумерным электронным газом с высокой подвижностью носителей заряда. Селективно−легированные полупроводниковые гетероструктуы (СЛГС) AlGaAs/GaAs с двумерным электронным газом (ДЭГ) с высокой подвижностью электронов являются в настоящее время основой для создания современных транзисторов, в том числе полевых транзисторов с высокой подвижностью электронов (high electron mobility transistor, HEMT), приборов для систем телекоммуникаций, СВЧ− и оптоэлектроники, а также высокочувствительных миниатюрных датчиков для систем управления и контроля [1, 2]. Позволяющие исследовать особенности квантового транспорта электронов, также создаются на основе гетероструктур AlGaAs/ GaAs с двумерным электронным газом с высокой подвижностью электронов [3]. Если для создания контакта к объемному n−GaAs достаточно легирования небольшой приконтактной области, то в случае СЛГС необходимо обеспечить проводимость всего слоя полупроводника от границы металла до проводящего слоя и при этом не нарушить его проводимость внесением дефектов

Образцы и методы исследования
Выбор состава металлизации
Механизм образования контакта
Влияние ориентации на электрическое сопротивление
Библиографический список
Full Text
Published version (Free)

Talk to us

Join us for a 30 min session where you can share your feedback and ask us any queries you have

Schedule a call