Oxidative Addition von C−F‐Bindungen an das Silanid‐Anion [Si(C2F5)3]−

Abstract

AbstractVerbindungen von Hauptgruppenelementen in niedrigen Oxidationsstufen sind in der Lage, die Reaktivität von Übergangsmetallkomplexen nachzuahmen. Wie Letztere neigen niedervalente Hauptgruppenelementverbindungen zur Änderung ihrer Oxidationsstufe und Koordinationszahl um +2, wodurch sie die wesentlichen Voraussetzungen für oxidative Additionen erfüllen. Prominente Beispiele für Hauptgruppenelementverbindungen, die mit Organohalogeniden R−X (R=Alkyl, Aryl, X=F, Cl, Br, I) oxidative Additionen eingehen, sind Carbene und ihre höheren Analoga. Kürzlich wurde auch über Aluminyl‐Anionen berichtet, die wie Carbene und Silylene starke σ‐Bindungen von R−X‐Spezies oxidativ addieren können. Hier stellen wir nun mit dem Tris(pentafluorethyl)silanid‐Anion, [Si(C2F5)3]−, das erste Anion aus der 14. Gruppe vor, welches C−F‐Bindungen im Sinne einer oxidativen Addition zu spalten vermag. Dies ermöglichte die Isolierung von nicht‐chelatierten Tetraorganofluorosilicat‐Salzen, die unseres Wissens bisher nur als reaktive Zwischenstufen nachgewiesen wurden.