種々の陰イオン溶液中における鉄不動態皮膜破壊に及ぼす超薄二次元重合膜被覆と補修処理の影響

Abstract

不動態化Fe電極上に超薄二次元重合膜を作製し，不動態皮膜を0.1 M NaNO3中に浸漬して補修処理した．不動態皮膜破壊に要する時間，tbdを4種類の陰イオンの0.1 M溶液中における自然浸漬電位の追跡によって測定した．不動態化し、重合膜で覆い，あるいはさらに補修処理した電極の腐食防止率はtbd以前において約99.9％と非常に高く， 不動態皮膜が破壊されない限り，Fe腐食の完全な防止が行なわれた．一方，不動態化Fe電極のtbd値，tbd0は14種類の陰イオンの0.1 M溶液中で測定されている．本報では重合膜で覆った不動態化電極のtbd値，tbd1と不動態化，重合膜被覆そして補修処理した電極の値，tbd2をtbd0から評価する．これらの値を硬いおよび軟らかい酸塩基の法則に基づいた陰イオンの分類を用いて検討する．さらに，tbd2に及ぼす陰イオン濃度の影響を考察する．