Abstract
ヘキサメチルジシロキサンより生成したプラズマ重合膜を平行平板電極間で大気中で放電処理した場合の赤外吸収スペクトル, ESCAスペクトル, 接触角, 表面抵抗率, 静電容量, 及びtanδの変化を調べた. その結果, 放電処理すると水酸基, カルポニル基, 及び窒素化合物が導入され, 処理時間とともにシリコン原子に対する炭素原子の比が減少するのに対して窒素原子及び酸素原子のものは増加すること, プラズマ重合膜の水に対する接触角は放電処理前では103°で疎水性を示すが, 処理後では水滴が表面に広がることがわかった. また, プラズマ重合膜を放電処理するとその表面抵抗率は109Ω程度に低下し, 静電容量は約2倍, tanδは10%程度に増加することがわかった.
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