アゾベンゼン修飾カチオン性界面活性剤を用いた銅フタロシアニン薄膜の作製

Abstract

還元により分散能が失われるアゾベンゼン修飾カチオン性界面活性剤 (AZTAB) を用いてβ型銅フタロシアニン (CuPc) の薄膜化に成功している。AZTABのHCl, CuPc分散液に卑金属を浸せきすることにより, また, ITO基板ではアルミニウムと接触させ分散液中に同時に浸せきすることによりCuPc薄膜が得られた。得られた薄膜は使用したCuPc微粒子より構成されており, 膜厚は均一であった。また, 製膜量が最大となるAZTAB濃度が存在し, その値は分散させたCuPc量に依存していた。さらに薄膜の生成条件およびCuPc粒子へのAZTABの吸着等温線より薄膜の生成機構を推定している。