Abstract
This paper presents the results of porous structure analysis of polishing materials based on polyurethanes used in chemicalmechanical planarization process of IC layers.
Highlights
В данной работе представлены результаты анализа пористой структуры полировальных материалов на основе полиуретанов, применяемых в процессе химико-механической планаризации слоев интегральных схем
This paper presents the results of porous structure analysis of polishing materials based on polyurethanes used in chemicalmechanical planarization process of IC layers
Chemical Mechanical Polishing in Silicon Processing, Volume 63 Semiconductors and Semimetals Vol 63, Academic Press / Lee M
Summary
В данной работе представлены результаты анализа пористой структуры полировальных материалов на основе полиуретанов, применяемых в процессе химико-механической планаризации слоев интегральных схем. Реализация которого невозможна без применения полимерных материалов, является процесс химико-механической планаризации (ХМП) интегральных схем, сущность которого заключается в полировке слоев полупроводниковых пластин для достижения абсолютно плоской поверхности. Эффективность полирования пластин зависит от ряда факторов, таких как состав полировальной суспензии, структура верхнего слоя обрабатываемой пластины, структура и свойства полировального материала, а также регенерации (кондиционирования) его поверхности [1 3]. Цель работы – анализ структуры полировальных материалов на основе полиуретанов, применяемых для химико-механической планаризации полупроводниковых пластин. На сегодняшний момент для обработки полупроводниковых пластин при изготовлении интегральных схем чаще всего используют полировальные материалы с лицевой поверхностью из полиуретанов, которые обладают сбалансированными механическими свойствами, такими как прочность, твердость, упругость, а также хорошая химическая стабильность. В качестве объектов исследования в работе использовали промышленные образцы ряда полировальных полимерных материалов: IC 1000 (производство Dow, США), Politex (производство DuPont, США), Аналог IC 1000 (производство Китай), DOW IC 1010 (производство Dow, США), TWI-817 (производство Thomas West, США), Fujibo 804 CZM (производство Fujibo, Япония)
Sign-in/Register to view highlights & summary Sign-in/Register to access full text options 
Talk to us
Join us for a 30 min session where you can share your feedback and ask us any queries you have
Schedule a callDisclaimer: All third-party content on this website/platform is and will remain the property of their respective owners and is provided on "as is" basis without any warranties, express or implied. Use of third-party content does not indicate any affiliation, sponsorship with or endorsement by them. Any references to third-party content is to identify the corresponding services and shall be considered fair use under The CopyrightLaw.
