MgO growth by liquid injection chemical vapor deposition: experiments, modeling and simulation

Abstract

Croissance de MgO par depot chimique en phase vapeur avec injection liquide: experiences, modelisation et simulation. Des couches minces d'oxyde de magnesium ont ete elaborees par une technique de depot chimique a partir d'une phase gazeuse particuliere mettant en jeu l'injection liquide. Les depots ont ete realise en condition oxydante en utilisant comme precurseur le bis(2,2,6,6-tetramethyl-3,5-heptanedionate) de magnesium (Mg(thd) 2 ). La structure, la composition et la morphologie des films ont ete analysees par differentes techniques. Un modele de reactivite comprenant 3 etapes concurrentes a ete propose sur la base des resultats parametriques experimentaux. Il a ete ensuite couple au modele thermo-hydraulique. Ce modele permet d'evaluer de facon macroscopique les phenomenes de transport et plus particulierement la competition entre la croissant et la nucleation en phase homogene. Le modele a ete utilise pour la conception d'un reacteur comprenant un systeme d'introduction de gaz et un substrat de 200 mm de diametre.