Abstract
Fotorresina positiva AZ-1518 é um exemplo de material fotossensível amplamente usado em processos litográficos em microeletrônica e em óptica para fabricação de componente de relevo. Esta fotorresina é formada pelo composto fotoativo (PAC) e de uma matriz, que é uma resina espessa denominada novolak. Quando exposta à radiação ultravioleta, reações químicas induzidas modificam as suas propriedades físicas e químicas. Filmes finos homogêneos desses materiais fotossensíveis foram preparados sobre substratos de vidro. Este trabalho tem como objetivo medir o índice de refração dos filmes, não expostos e expostos à radiação ultravioleta, utilizando o método Abelès. A partir das medidas das variações do índice de refração dos filmes fotossensíveis é possível obter a medida da taxa de decaimento do composto fotoativo (PAC) por unidade de intensidade. Medidas desta taxa fornecem indicações importantes da cinética química microscópica desses materiais fotossensíveis. Os resultados mostram que a precisão do método é suficiente para medir as variações do índice de refração desses tipos de materiais fotossensíveis.
Highlights
Positive AZ-1518 photoresist are examples of photosensitive materials widely used in lithographic processes in microelectronics and optic for component relief manufacturing
́e a fase associadaa diferenca de caminhooptico entre os feixes refletidos na interface ar - filme e na interface filme - substrato, de a espessura do filme, λe o comprimento de onda da radiacao eletromagnetica no vacuo e n1, n2, n3 sao osındices de refracao do ar, filme e substrato, respectivamente
A Fig. 4 mostra os graficos experimentais das reflectancias da luz sobre o substrato de vidro e da reflectancia da luz do conjunto filme - substrato, em funcao dosangulos de incidencia, para a os filmes expostos e nao exposto
Summary
Materiais fotossensıveis sofrem alteracoes fısico-quımicas quando expostosa radiacao eletromagnetica de comprimentos de onda apropriados. Embora o fenomeno de fotossensibilidade esteja presente no nosso dia a dia, como nas lentes fotocromaticas e cameras fotograficas, as aplicacoes dos materiais fotossensıveis se estendem aos processos de armazenamento de informacao [1], de fotolitografia em microeletronica [2, 3], de gravacao de redes de Bragg em fibrasopticas e em holografia [4,5,6,7,8,9]. As fotorresinas positivas sao exemplos de materiais fotossensıveis amplamente empregados nos processos litograficos em microeletronica e emoptica para fabricacao de componentes de relevo. Microeletronica elas sao utilizadas como mascaras para transferencias de padroes geometricos para fabricacao de circuitos integrados [10]. Elas sao utilizadas na fabricacao estruturas periodicas com propriedadesopticas difrativas [2, 7]. As medidas foram realizadas utilizando um laser de He-Ne despolarizado de comprimento de onda λ = 633 nm
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