ITO와 ZnO:Al 투명전도막의 전기적 특성 및 PDP 셀의 휘도 특성

Abstract

각 종 전자 디바이스의 투명전도막으로 많이 사용되는 ITO 및 ZnO：Al 박막을 스퍼터링법에 의해 제작하였다. 가스압력 및 기판온도 등의 최적조건하에서 제작된 ITO 및 ZnO：Al 박막은 각각 1.67×10?³[Ω-㎝] 및 2.2×10?³[Ω-㎝]의 비저항율과 89.61[%] 및 90.88[%]의 가시광 영역에서의 광투과율을 나타내었다.BR ZnO：Al과 ITO 투명전극을 이용하여 5인치의 PDP 셀을 동일한 제조조건하에서 제작하였다. ZnO：Al의 경우 Ne(base)-Xe(8%)의 가스 혼합비, 그리고 400[Torr]의 압력조건에서 가장 잘 동작되었으며, 200～300[V]의 인가전압 범위에서 836[cd/㎡]의 평균휘도를 나타내었다. 고휘도 및 저 소비전력특성을 위한 중요한 파라메타인 광효율은 전원 주파수가 10～50[Khz]의 범위에서 1.2～1.6[lm/W]정도를 나타내었으며, ITO의 경우 휘도 및 광 발생 효율은 약 10[%]정도 상승하였다.