Abstract
Investigation of the Effect of the Short-Term Exposure of Oxygen and Hydrogen Plasma on the Composition and Structure of Thin Tin Dioxide Films
Highlights
Современные технологии не обходятся без производства тонких пленок диоксида олова, которые наиболее широко применяются в основном в трех областях: в качестве прозрачных электродов, катализаторов и твердотельных сенсоров различных газов [1, 2]
Наблюдаемых в оптических параметрах и структурных характеристиках диоксида олова после плазменной обработки, позволяет лучше понять динамику изменений физических и структурных свойств тонких пленок диоксида олова
Grushevskaya E.A., Ibraimova S.A., Dmitriyeva E.A., Lebedev I.A., Mit’ K.A., Mukhamedshina D.M., Fedosimova A.I., Serikkanov A.S., Temiraliev A.T. sensitivity to ethanol vapour of thin films SnO2 doped with fluorine
Summary
Казахский национальный исследовательский технический университет имени К. Национальный исследовательский технологический университет «МИСиС», Ленинский просп., д. Современные технологии не обходятся без производства тонких пленок диоксида олова, которые наиболее широко применяются в основном в трех областях: в качестве прозрачных электродов, катализаторов и твердотельных сенсоров различных газов. Рассмотрено влияние кратковременного воздействия плазмы на состав и структуру тонких пленок диоксида олова, полученных из раствора пятиводного тетрахлорида олова в 97%-ном этаноле с различной концентрацией ионов олова. Выявлен линейный характер зависимости толщины пленок диоксида олова SnO2 от концентрации раствора и количества нанесенных слоев. Что обработка пленок SnO2 водородной плазмой позволяет снизить их электрическое сопротивление без уменьшения прозрачности. Обработка кислородной плазмой снижает прозрачность пленок SnO2, а сопротивление пленок увеличивается с увеличением длительности такой обработки. А. Исследование влияния кратковременного воздействия кислородной и водородной плазмы на состав и структуру тонких пленок диоксида олова. National Research Technological University “MISiS”, 4 Leninsky Prospekt, Moscow, 119049, Russia
Talk to us
Join us for a 30 min session where you can share your feedback and ask us any queries you have