Ha/Β-TCP Kumlama ve Anodizasyon İşlemlerinin Yüzey Kontak Açısına ve Topografyasına Etkilerinin İncelenmesi

Abstract

Medikal, ulaşım, enerji gibi endüstriyel alanlarda birçok farklı kullanım amacına uygun olarak hidrofilik ve hidrofobik yüzey karakterlerine ihtiyaç duyulmaktadır. Farklı modifikasyon teknikleri kullanarak yüzeylerin kimyasal ve fiziksel yapıları, enerjileri değiştirilmekte ve buna bağlı olarak yüzeyin kontak açısı değiştirilmektedir. Bu çalışma kapsamında HA/β-TCP kumlama ve anodizasyon işlemi Ti64Al4V ELIdisk numunelere uygulanarak, otoklavlanmış ve otoklavlanmamış şartlar altında yüzeylerin sahip olduğu ıslanma değerleri kontak açısı ölçümleri ile tespit edilmiştir. Ayrıca numune gruplarının sahip olduğu topografyalar Taramalı Elektron Mikroskobu, Kontak Profilometre, Optik Profilometre ile incelenmiş, kumlama esnasında kullanılmış olan HA/β-TCP taneciklerinin içeriği X ışını kırınımı ile incelenmiştir. Disk numunelerin pürüzlülük değeri kumlama ile 1,92 μm değerine yükselirken anodizasyon sonrasında bu değer 1,73 μm değerine düşmüştür. Kumlama ve anodizasyon işlemi gerçekleştirilen numuneler en hidrofilik karaktere sahip numune grubu olarak tespit edilmiştir. Otoklav sonrasında kumlanmış numune grubu en yüksek ıslanma açısı ile hidrofobik karakterde tespit edilmiştir.