Abstract

Molybdenum disulfide is a layered transition metal chalcogenide semiconductor. It has many applications in the fields of two-dimensional spintronics, valleytronics and optoelectronics. In this review, molybdenum disulfide is taken as a representative to systematically introduce the energy band structures of single layer, bilayer and twisted bilayer molybdenum disulfide, as well as the latest experimental progress of its realization and low-temperature electrical transport, such as superconductivity and strong correlation phenomenon. Finally, two-dimensional transition metal chalcogenide moiré superlattice’s challenges in optimizing contact and sample quality are analyzed and the future development of this field is also presented.

Highlights

  • molybdenum disulfide is taken as a representative to systematically introduce the energy band structures of single layer

  • 2) (School of Physical Sciences, University of Chinese Academy of Sciences, Beijing 100049, China) 3) (Songshan Lake Materials Laboratory, Dongguan 523808, China)

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Summary

AA After B

图 1 单层二硫化钼 (a) 2H 相原子结构示意图 [36]; (b) 准粒子自洽格林函数方法计算得到的能带结构 [37]; (c) 荧光谱 [42]; (d) 朗 道扇形图 [58]; (e) 谷霍尔效应示意图. 引入了很强的自旋-轨道耦合 (SOC), 并打破了动 量空间 G-K 连线上的自旋简并, 使得价带和导带 的 K 谷都出现不同自旋电子的能量劈裂 [39−41], 由 于存在时间反演对称性, K 谷和–K 谷电子自旋劈 裂的方向相反, 被称为自旋-能谷锁定. 在实验上, 在单层二硫化 钼的荧光谱实验中看到的 1.85 eV 和 2 eV 附近很 强的荧光峰分别对应 K 谷不同自旋单态配对形成 的激子, 称为 A 和 B 激子[12,13,42], 如图 1(c) 所示. 2011 年 Kis 研究组 [50] 利用二氧化铪作为 顶栅介质, 测到单层二硫化钼的场效应迁移率能达 到 200 cm2·V–1·s–1. 绝大部分课题组在二氧化硅上 测到的迁移率为 0.1—50 cm2·V–1·s–1[52,53], 在高介 电绝缘衬底上迁移率可提升至 15—60 m2·V–1·s–1[20]. 在 1.7 K 的测量温 度下, 单层二硫化钼形成简并度为 2 的朗道能级, 对应于 K 谷和–K 谷电子的简并. 随着电子掺杂浓 度的提升, 朗道能级的斜率会有一个突变, 意味着 电子开始填充 K 谷和–K 谷自旋-轨道劈裂的上子 能带, 如图 1(d) 所示 [58]. 单层二硫化钼不 具有空间反演对称性但保留了时间反演对称性, 其 能带在 K 谷和–K 谷具有相反的贝利曲率. 在实验上, 双层二硫 化钼受栅压调控的谷霍尔效应证实了这一点 [72], 如图 2(c) 所示. 双层二硫化钼除了对称性的改变, 另一个重要 的特性是能带结构由直接跃迁转变为间接跃迁. 二 硫化钼 K 谷空穴的轨道同时有钼原子和硫原子的 贡献, 层间耦合作用强, 价带顶从 K 谷转变为 G 谷. 而 K 谷电子的轨道贡献主要来自中间的钼 原子, 层间耦合会比较弱, 普遍认为双层二硫化钼 的导带底仍然是 K 谷. 但是一部分理论计算结果 表明双层二硫化钼的导带底位于非对称的 Q 点 [18]. 2018 年人们通过探测光学激子验证了双层二硫化 钼的导带底位于 K 点而非 Q 点 [73]. 如图 2(b) 所示 是利用准粒子自洽格林函数方法计算得到的本征 (a) (d)

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