Design of non-symmetrical projection lens for digital lithography

Abstract

针对DMD数字光刻，利用ZEMAX光学设计软件，设计出了一套适用于型号 0.7XGA DMD的10片式光刻投影物镜。该物镜采用非对称性结构，前组为改进的三分离物镜，后组为匹兹伐物镜加平像场镜，分辨率为2 m，近轴放大倍率为-0.15,像方数值孔径NA为0.158，全视场波像差小于/20 ，畸变小于0.014%，焦深为20 m，通过各项评价可知系统已经达到了衍射极限。在对该镜头进行公差分析后，利用Monte Carlo方法，模拟组装加工了100组镜头，得到90%的镜头MTF＞0.46，50%的镜头MTF＞0.51，证明了这种非对称性结构加工和校装的可能性。