Abstract
The possible interrelation between the value of electrode potential φs, surface condition and mechanisms of pore formation of Si was substantiated. The influence of finishing chemical treatment method on the φs of Si-plates was investigated.Features of φs behavior over time in media with different pH values after treatment of Si-electrode in acid-peroxide solutions (including HNO3) are treated by manifestation of incomplete surface passivation by the oxide film. It is caused by the fact that, for the course of reduction-oxidation reactions, it is necessary to reach a certain concentration in the HNO2 catalyst solution, which would "start" the NO2 recyclizationprocess.The research results showed that treatment of Si in ammonia-peroxide solutions promotes the formation of Si-OH coating on its surface. This leads to a larger value and stabilization of the electrode potential in neutral and acidic media. In alkaline medium, hydroxide film can turn into oxide by breaking the bonds O-H that leads to the reduction of potential. According to the Pourbaix diagram analysis, the course of reactions with the formation of ionic forms of orto-silicate acid is probable in this area of pH.
Highlights
Методика експериментуВ експериментах використовували шліфовані та поліровані Si-пластини р-типу провідності, орієнтації (111) з питомим опором ρ=10 Ом⋅см.
Попередню обробку проводили згідно з [12].
Фінішну хімічну обробку поверхні проводили у кислотно-пероксидних та амоніачно-пероксидних розчинах за варіантами [13].
Summary
В експериментах використовували шліфовані та поліровані Si-пластини р-типу провідності, орієнтації (111) з питомим опором ρ=10 Ом⋅см. Попередню обробку проводили згідно з [12]. Фінішну хімічну обробку поверхні проводили у кислотно-пероксидних та амоніачно-пероксидних розчинах за варіантами [13]. Електродний потенціал Si-пластин досліджували в електролітах з різним рН середовища (водні розчини Na2SO4, Н2SO4, NaOH, НF, HNO3). Розчини електролітів та для фінішної хімічної обробки готували з реактивів марки “ос. %): Н2SO4 – 96, Н2О2 – 33, HCl – 37, HNO3 – 76, NH4OH – 25, НF – 48 Розчини електролітів та для фінішної хімічної обробки готували з реактивів марки “ос. ч.” таких концентрацій (мас. %): Н2SO4 – 96, Н2О2 – 33, HCl – 37, HNO3 – 76, NH4OH – 25, НF – 48
Sign-in/Register to view highlights & summary Sign-in/Register to access full text options 
Talk to us
Join us for a 30 min session where you can share your feedback and ask us any queries you have
Schedule a callMore From: Eastern-European Journal of Enterprise Technologies
Disclaimer: All third-party content on this website/platform is and will remain the property of their respective owners and is provided on "as is" basis without any warranties, express or implied. Use of third-party content does not indicate any affiliation, sponsorship with or endorsement by them. Any references to third-party content is to identify the corresponding services and shall be considered fair use under The CopyrightLaw.
