Abstract
AbstractDer Verlauf der Photolyse (Ä 280 nm) des Spirothiophenondioxids (I) ist lösungsmittelabhängig: Während in Benzol ein homolytischer Prozeß über RadikaI‐Zwischenstufen unter sOz‐Eliminierung zu dem Keton (II) führt, abstrahiert in Toluol oder Xylol der angeregte (I)‐Zustand ein Proton aus der Methylgruppe des Lösungsmittels unter Bildung des Radikals (III), dessen Dimerisierungstendenz größer als seine Tendenz zur Abstraktion eines weiteren Lösungsmittelprotons ist [Bildung des Diols (IV)].
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