원자층증착법으로 ZnO:Al과 Al2O3를 코팅한 ZnO 나노막대의 광학적 특성

Abstract

원자층 증착법(Atomic Layer Deposition, ALD)을 이용하여 ZnO 나노막대에 ZnO:Al과 <TEX>$Al_2O_3$</TEX>를 코팅하여 coaxial 형태의 나노선 구조를 제작하여 광학적 특성을 분석하였다. 반도체인 ZnO:Al을 코팅하는 경우 Al이 ZnO층에 확산되어 ZnO에 도핑이 되는 효과를, <TEX>$Al_2O_3$</TEX>를 코팅하는 경우 반도체-절연체 계면 상태가 존재함을 광전이 특성을 이용하여 확인하였다. We studied the optical characteristics of ZnO:Al and <TEX>$Al_2O_3$</TEX> coated ZnO nanorods. When ZnO:Al is deposited around the undoped ZnO nanorods, thermal diffusion of Al into ZnO gives rise to decrease the binding energy of neutral donor bound exciton whereas an insulating Al2O3 is coated around ZnO, we found that semiconducor-insulator interface states play an important role in optical quenching.