Abstract
Разработана методика получения высококачественных эпитаксиальных пленок иридата стронция методом высокочастотного катодного распыления на подложки из титаната стронция и галата ниодима. С помощью рентгеновской дифракции изучены структурные особенности и влияние релаксации механических напряжений в тонких пленках, вызванных различием размеров решетки пленки и подложки. Из анализа дифракционных данных установлено, что в пленке наблюдается деформация параметра решетки. Это свидетельствует о возникновении напряжений, обусловленных несоответствием параметров решетки пленки и подложки, что приводит к неоднородной релаксации напряжений в пленке. Исследованы электронные транспортные параметры тонких пленок и возбуждение спинового тока в гетероструктурах SrIrO3/La0.7Sr0.3MnO3.
Talk to us
Join us for a 30 min session where you can share your feedback and ask us any queries you have
Schedule a callSimilar Papers
More From: Radioelectronics. Nanosystems. Information Technologies.
Disclaimer: All third-party content on this website/platform is and will remain the property of their respective owners and is provided on "as is" basis without any warranties, express or implied. Use of third-party content does not indicate any affiliation, sponsorship with or endorsement by them. Any references to third-party content is to identify the corresponding services and shall be considered fair use under The CopyrightLaw.
