Abstract
膨潤による解像力低下の少ない有機アルカリ水溶液による現像処理ができ, サブミクロンオーダーの微細パターンの形成が可能な, 耐ドライエッチンダ特性の優れたネガ型フォトレジスト材料を合成することを目的とし, 機能分離型構造の共重合体を合成した. アルカリ水溶液による現像処理が可能で耐ドライエッチング性を有する官能性モノマーとしてp-ヒドロキシスチレンを, 感光性モノマーとして2- (p-アジドベンゾイルオキシ) エチルメタクリラートを選び種々の比率の共重合体を合成し, ポリマーの現像特性及び画像特性について検討した結果, この共重合体は, ディープUV領域から紫外域にわたって高い感光性を示すとともに, CF4ガスによるドライエッチングに対して高い耐性を示した. 共重合体中のp-ヒドロキシスチレン含量が60mol%以上のポリマーはアルカリ水溶液に可溶で, 現像時に膨潤が少なく0.5μmラインパターンの転写が可能であった.
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