Abstract
WTO체재 수립 이래, 선진국들은 지식재산 보호 강화 정책에 집중해 왔으며, 경제 세계화와 특허제도 표준화는 특허사용료와 사회적 비용방면에서의 외부성 요인을 발생시키고 있다. 이러한 외부성 요인은 개도국에서 특히 더 많은 비효율을 양산하고 있으나, 개도국 입장에서 이에 대한 구체적인 실증연구가 부족했다.<BR> 따라서 본 연구에서는 개도국 중 선두 주자인 중국에서의 지식재산관련 주요 이슈로서 최근 전리법 개정 논의에서 도입하고자 하는 각종 친특허정책 규정들의 정당성과 합리성을 공리주의 사상과 아리스토텔레스의 덕성 관점에서 논하고자 하였다. 특히, 다양한 새로운 규정들이 선진국과 개도국에 미치는 영향을 평가하기 위해, 혁신누적론을 기초하여 특허제도 운영 변수에 따라 원천특허, 개량특허 및 공지기술로부터 얻을 수 있는 기대치를 추정 · 계량화하여 정성으로 비교할 수 있는 특허공정(公正) 모형을 차용하였다. 구체적으로 이러한 모형 연구를 바탕으로 하여, 제4차 중국 전리법 개정안에서 도입하고자 하는 각종 규정들이 경제적 효용 방면과 이익 형량 균형 방면에서 어떤 긍정적인 효과를 발생하는지 분석하고자 하였다. 아울러 본 연구에서는 세계화에 따른 개도국의 처지, 개도국에서 G2로 변모 중인 중국이 지니고 있는 지식재산 현황과 국제사회에서의 중국 전망 등을 살펴보고자 하였다.
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