Abstract
Niobium (Nb) doped Titanium dioxide (TiO2) thin films have been successfully grown using spin coating method. Characterizations of thin films was carried out using EDAX (Energy Dispersion Analysis for X-Ray), XRD (X-Ray Diffaction) and SEM (Scanning Electron Microscope) to determine the microstructure of thin films. Determination microstructure, particularly of crystal structure was examined using ICDD data, whereas porosity calculation was done using the toolbox application on Matlab 6.1 software. EDAX, XRD and SEM characterization show that the thin films grown well at the Si substrates with the (002) field orientation is dominant and the thin film has the rutile structure. The TiO2 : Nb thin films product have granules round, uniform grain size and porosity value of about 41%.
Highlights
Titanium dioxide (TiO2) merupakan bahan dielektrik dan bahan kimia stabil yaitu bahan yang tidak bereaksi dengan senyawa lain kecuali adanya sinar UV, memiliki titik leleh dan konstanta dielektrik yang tinggi
Data Scanning Electron Microscope (SEM) Karakteristik SEM film tipis TiO2 tanpa doping Nb dan diberi doping Nb dengan temperatur annealing 600 oC diperlihatkan pada Gambar 2 dan 3
Electrical proprerties of Nb- doped Titanium dioxide TiO2 at room temperature, Journal Material Science Potland, Vol 24
Summary
Bahan yang digunakan pada penelitian adalah Serbuk TiO2 (Titanium dioxide), Nb (Niobium), substrat corning (kaca), etanol, HCl dan aquades. Substrat silikon dibersihkan menggunakan etanol, selanjutnya substrat tersebut dikeringkan menggunakan hotplate selama 5 menit dengan temperatur 100 oC untuk menghilangkan uap air yang tertinggal. Larutan Nb dan TiO2 masing-masing diaduk menggunakan magnetic stirer selama 3 jam dengan laju putaran 700 rpm. Tahap berikutnya adalah proses fabrikasi film tipis, yaitu dengan mengambil 4 tetes larutan TiO2 : Nb untuk diteteskan pada substrat Si yang sudah ditempatkan pada alat spin coating. Substrat yang telah ditetesi larutan TiO2 : Nb diputar dengan tegangan 7 volt selama 15 detik menggunakan spin coating. Langkah berikutnya adalah melakukan pemanasan awal (pre anneling) dengan menggunakan hotplate dengan suhu 100 oC selama 30 menit. Pre anneling bertujuan untuk menghilangkan uap air (pelarut) pada film tipis, kemudian melakukan pemanasan (annealing) dengan menggunakan furnace dengan suhu 600 oC. Profil dari SEM dianalisis untuk mengetahui homogenitas, ukuran butiran (grain size) dan porositas dibantu menggunakan software Matlab 6.1 (Memoria, dkk., 2009)
Sign-in/Register to view highlights & summary Sign-in/Register to access full text options 
Talk to us
Join us for a 30 min session where you can share your feedback and ask us any queries you have
Schedule a callDisclaimer: All third-party content on this website/platform is and will remain the property of their respective owners and is provided on "as is" basis without any warranties, express or implied. Use of third-party content does not indicate any affiliation, sponsorship with or endorsement by them. Any references to third-party content is to identify the corresponding services and shall be considered fair use under The CopyrightLaw.
